尊敬的专家学者:
2025年先进半导体器件与集成技术国际学术会议将于2025年9月19-21日在中国江苏无锡举办。本次会议旨在汇聚全球半导体领域的顶尖学者、行业专家和企业领袖,共同探讨最新的研究成果和技术进展。会议将涵盖先进半导体器件的设计、制造、材料及其在各类应用中的创新,包括人工智能、量子计算和5G通信等前沿科技。与会者将有机会参加主题演讲、专题讨论和技术展示,深入了解行业动态,分享前沿经验。
我们诚邀全球的专家学者参与此次盛会,共同推动半导体技术的进步与发展。期待与您相聚无锡,共同探索未来科技的无限可能!
一、会议官网:www.asdit.org
二、会议时间:2025年9月19-21日
三、会议地点:中国·无锡
四、会议组织单位
主办单位:江南大学
协办单位:江南大学集成电路学院、江南大学理学院、无锡市第三代半导体器件与集成技术重点实验室、研微(江苏)半导体科技有限公司
支持单位:无锡市集成电路学会
五、会议组委
大会主席
敖金平教授,江南大学
顾晓峰教授,江南大学
杨国锋教授,江南大学
技术程序委员会主席
余建军教授,复旦大学
徐骏教授,南通大学
刘学峰教授,南京理工大学
顾文华教授,南京理工大学
李杨副教授,江南大学
出版主席
姜岩峰教授,江南大学
刘璋成副教授,江南大学
陈辉副教授,南京航空航天大学
寇君龙副教授,南京大学
当地委员会主席
王霄副教授,江南大学
林兴董事长,研微(江苏)半导体科技有限公司
六、会议研讨主题
1、半导体器件
新型半导体材料及其在器件中的应用、高性能MOSFET设计与优化、能耗效率优化的功率器件技术、超越硅的III-V族化合物半导体器件、微光电半导体传感器及其应用、半导体激光器及其新兴应用领域、石墨烯和其他二维材料器件、量子点和量子阱半导体器件、新型存储器器件:RRAM, MRAM, FeRAM、低温电子器件的挑战与机遇、高频和高功率器件的突破性技术、硅基光电子器件及其集成技术、隧穿场效应晶体管(TFET)器件研究、半导体器件的可靠性与老化机制、先进封装和互连结构对器件性能的影响;
2、集成技术
三维集成电路及其制造工艺、片上系统(SoC)与集成方法、芯片异构集成技术、封装级集成技术的发展与创新、集成电路中的热管理技术、射频集成电路及其设计优化、人工智能与机器学习在集成电路设计中的应用、先进模拟与混合信号集成电路、电源管理集成电路技术、集成电路设计中的可靠性与安全挑战、硅光子学互连技术、超大规模集成技术的最新进展、新兴存储器集成技术、模块化MEMS与NEMS的集成应用、智能传感系统的集成与创新。
七、会议出版
本会议所有的投稿都必须经过2-3位组委会专家审稿,经过严格的审稿之后,最终所录用的论文将论文集形式递交至IEEE(ISBN:979-8-3315-9671-2)出版,见刊后由出版社整理提交至IEEE Xplore、EI Compendex、Scopus检索。
八、会议征稿报名信息及注册费用
(1) 投稿参会链接
报名参会链接:https://www.ais.cn/attendees/toSignUp/IAJ2YF?invite=JNU
投稿注册网址:https://www.ais.cn/attendees/paperSubmit/IAJ2YF?invite=JNU
(2) 参会形式包含作者参会、口头报告、海报展示、听众参会。
(3) 参会费用标准:基础参会费用为1500元/人,团队参会费用为1200元/人(团队参会三人以上),交通住宿自理。
(4) 投稿基础版面费用3800元/篇(4页),超页费400元/页,投稿作者可免费参会。截止至7月29日前完成投稿并注册录用,可享早鸟价3400元/篇(4页)。
(5) 收费单位:会议委托广州科奥信息技术股份有限公司承办,并代收作者的会议注册费并开具发票。(单位名称:广州科奥信息技术股份有限公司;开户行:中国工商银行广州育蕾街支行;银行账号:3602879819100299208)
九、会议议程(以下日程为暂定计划,最终版后续更新)
日期 |
时间 |
内容 |
9月19日 |
14:00-18:00 |
报名注册 |
9月20日 |
09:00-12:00 |
主题报告 |
12:00-14:00 |
午餐 |
14:00-16:00 |
主题报告 |
16:00-18:00 |
口头汇报 |
9月21日 |
09:00-18:00 |
学术考察活动 |
十、会议秘书
严老师:电话/微信:18124945342;邮箱:yanxiangru@ais.cn
2025年先进半导体器件与集成技术国际学术会议(ASDIT 2025)
AEIC学术交流中心(代章)
2025年2月11日